EE.UU. alerta a ASML sobre la presencia de una máquina litográfica EUV en China, un hecho que se consideraba imposible debido a las restricciones comerciales.

Las dos empresas han trabajado juntas durante más de una década, con IBM presentando en 2021 lo que describió como el primer chip del mundo con nodo de 2 nm como parte de esta colaboración.

ASML mejora sus sistemas de litografía EUV alcanzando 1.000W de potencia, lo que incrementa un 50% la producción de chips y reduce costes significativamente.

 Este vídeo es una cronología de la creación del escáner de litografía EUV (Extreme Ultraviolet Lithography scanner), una máquina que de la empresa neerlandesa ASML. Se vende en contadas unidades a las fábricas de chips (como TSMC, Intel y Samsung) que la usan para montar los microchips que albergan los teléfonos móviles, ordenadores, tarjetas gráficas y otro tipo de dispositivos avanzados.

China, según informes, ha construido y comenzado a probar un prototipo secreto de litografía EUV utilizando tecnología de plasma producido por láser al estilo de ASML. Sin embargo, a pesar de generar luz de 13.5 nm, el sistema sigue siendo incapaz de fabricar chips y parece estar a años de lograr una capacidad de fabricación EUV completa y lista para la producción. El informe afirma que los empleados recibieron identificaciones falsas para evitar que se detectara el proyecto secreto, y se esperan prototipos para 2028.